鋁合金鑄件生產(chǎn)后，電壓進(jìn)入一個更加有序、緩慢上升的階段。結(jié)果表明，無孔層是連續(xù)分解的，同時生長著新的無孔層，也就是說，氧化膜中無孔層的轉(zhuǎn)化效率與分解速率是平衡的，因此無孔層厚度不容易再次上升，電壓變化較小。
　　然而，此時，孔底部氧化膜的轉(zhuǎn)變和分解無法停止，它們?nèi)栽诶^續(xù)發(fā)展，導(dǎo)致孔底部逐漸進(jìn)入金屬基體。在鋁合金鑄造生產(chǎn)中，隨著氧化時間的增加，孔隙率隨著孔洞的增加而出現(xiàn)，具有孔隙率的膜層逐漸增厚。當(dāng)膜轉(zhuǎn)化率和分解率達(dá)到動態(tài)平衡時，即使在促進(jìn)氧化的情況下，氧化膜的厚度也不會再次上升，應(yīng)停止陽極氧化階段。
　　在通電的最初幾秒鐘到幾十秒鐘內(nèi)，鋁表面直接轉(zhuǎn)變?yōu)橐粚又旅?、絕緣性能高的氧化膜，厚度約為0.01~0.1μm，形成一層連續(xù)的無孔膜層，稱為無孔層或阻擋層，當(dāng)電流通過并且膜層再次變厚時，膜發(fā)生。
　　鋁合金鑄件生產(chǎn)中的氧化過程簡單，液體有序，操作過程方便，碎屑成分廣泛，功耗低，成本降低，幾乎可以更適合鋁和各種鋁合金的加工，因此在中國得到了廣泛的應(yīng)用。